MILE|米乐-康宁将获美国芯片法案3200万美元补贴

国际电子商情11日讯 美国商务部于上周五公布了一项规划，该规划将资助康宁公司增长用在芯片制造的玻璃产物的出产量。

按照TomsHardware报导，康宁公司与英特尔、台积电（TSMC）及三星等全世界领先的晶圆代工场同样，将从美国的《芯片与科学法案》中得到财务补助。按照上周五的一份通知布告显示，康宁与美国商务部签订了开端和谈，按照该法案，康宁将得到约莫3200万美元的拨款撑持。zQVesmc

详细来讲，这笔资金将被用在扩大康宁于纽约州坎顿的制造举措措施，目的是晋升高纯度熔融石英（HPFS）及Extreme ULE玻璃等要害质料的出产。这些特种玻璃对于在高端芯片制造至关主要，由于它们是出产光掩模的焦点原料，而光掩模于芯片制造中饰演着至关主要的脚色。经由过程提高这些质料的出产量，康宁公司将增强其于全世界半导体质料供给链中的职位地方，并促成美国芯片制造业的增加。zQVesmc

Extreme ULE玻璃，作为一种钛硅酸盐玻璃质料，以其靠近零膨胀的特征而著名，持久被用在EUV光掩模及光刻镜的出产。这类玻璃的极低热膨胀系数包管了于EUV情况下的高一致性。鉴在EUV光刻技能对于精度及不变性的极高要求，康宁的新玻璃可以或许蒙受高强度的极紫外光，从而显著提高芯片设计及制造的机能。zQVesmc

康宁公司近来于加州蒙特雷举办的SPIE光掩模技能+极紫外光刻集会上推出了其新一代Extreme ULE玻璃质料。据吐露，这类玻璃质料将助力芯片制造商优化光掩模，使其可以或许蒙受高强度的极紫外光（包括High NA EUV），进而提高EUV光刻技能的精度及不变性。zQVesmc

康宁的Extreme ULE玻璃于光掩模及光刻镜范畴的运用被认为是一个庞大的技能前进，其卓着的热不变性及靠近零的膨胀特征为半导体系体例造设定了新的高尺度，并将直接影响将来芯片的出产效率及成本布局。zQVesmc

康宁进步前辈光学副总裁兼总司理Claude Echahamian暗示：“跟着人工智能的快速成长，对于集成芯片制造的需求日趋增加，玻璃立异变患上史无前例的主要。咱们的EXTREME ULE玻璃将经由过程撑持更高功率的EUV制造及更高的产量，增强康宁于鞭策摩尔定律成长中的要害作用。”zQVesmc

今朝，康宁公司已经经与美国商务部就《芯片及科学法案》下的拨款告竣了开端和谈。该项目估计将对于本地经济孕育发生踊跃影响，估计将创造130个制造业岗亭及跨越175个修建业岗亭。zQVesmc